MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：33
- 题名/责任者:
- 离子束溅射源特性及其镀膜工艺研究/张进著 朱昌指导
- 出版发行项:
- 西安:西安工业大学,2007
- ISBN及定价:
- /缴送
- 载体形态项:
- 59页;28cm
- 个人责任者:
- 张进 著
- 个人次要责任者:
- 朱昌 指导
- 非控制主题词:
- 离子束溅射镀膜(IBSD) 离子源 沉积速率 磁路 择优取向
- 中图法分类号:
- O484.4
- 学位论文附注:
- 硕士论文--西安工业大学光电工程学院,2007
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