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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:20

题名/责任者:
End-Hall离子源沉积DLC膜的工艺研究[硕士论文]/郭芮著 朱昌 教授指导
出版发行项:
西安:西安工业大学,2006
ISBN及定价:
/CNY缴送
载体形态项:
60页;30cm
个人责任者:
郭芮
个人次要责任者:
朱昌 教授 指导
非控制主题词:
端部霍尔离子源 等离子体化学气相沉积 类金刚石薄膜
中图法分类号:
TB43
学位论文附注:
光学工程:西安工业大学:2006
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态
TB43/15 759000355   内阅图书     可借
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